Shouren Elektromechanik
Silizium nitrid Folien scheibe 11 / 3
氮化硅薄膜窗格
Verbrauchs materialien für Elektro mikroskope

Silizium nitrid Folien scheibe

50nm und verschiedene Dicken von Silizium nitrid-Dünnschicht scheiben für In-situ-Beobachtungen

Technische Daten

常见膜厚 / Common thickness
50 nm(其他可定)
材质 / Material
Si₃N₄

Beschreibung

Silizium nitrid (Si ₃ N ₄) Dünnschicht scheibe, üblicher weise verwendete Film dicke von 50nm und andere Spezifikationen. Der Film hat einen hohen Grad an Ebenheit und eine gute mechanische Festigkeit. Er eignet sich für die Beobachtung von Flüssig-/Gasphase-In-situ-Elektro mikroskopen und Stütz substraten für verschiedene Mikro-Na-Geräte.

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