窒化ケイ素薄膜ペイン
氮化硅薄膜窗格
電子顕微鏡消耗品
窒化ケイ素薄膜ペイン
50nm及び各種厚さ窒化ケイ素薄膜ペインは、in situ観測に用いられる
仕様
- 常见膜厚 / Common thickness
- 50 nm（其他可定）
- 材质 / Material
- Si₃N₄
製品説明
窒化ケイ素 (Si ₃ N ₄)薄膜ペイン、常用膜厚50nmなどの規格。薄膜の平坦度が高く、機械的強度が良く、液相/気相原位置電子顕微鏡観測と各種マイクロナノデバイス支持基板に適している。
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