Шоурен Электромеханика
Нитрид кремния пленочная панель 11 / 3
氮化硅薄膜窗格
Расходные материалы для электрических зеркал

Нитрид кремния пленочная панель

50 нм и различные толщины нитрида кремния пленочные панели для наблюдения in situ

Характеристики

常见膜厚 / Common thickness
50 nm(其他可定)
材质 / Material
Si₃N₄

Описание

Нитрид кремния (Si N) тонкопленочная панель, обычно используемая толщина пленки 50 нм и другие характеристики. Пленка имеет высокую плоскостность и хорошую механическую прочность, которая подходит для наблюдения за жидкой фазой/газовой фазой in-situ и поддерживающей подложки различных микро-нилабральных устройств.

Нужен расчёт стоимости или образец?

Provide specifications and quantity — we will reply with pricing and lead time within one business day. Small trial runs supported.

Нужен расчёт стоимости или техподдержка?

Tell us your specifications and quantity — our team will respond within one business day.